S poboljšanjem životnog standarda ljudi i kontinuiranim razvojem znanosti i tehnologije, ljudi imaju sve veće zahtjeve za performansama dekorativnih premaznih proizvoda otpornih na habanje, koroziju i visoke temperature.Naravno, premaz može uljepšati i boju ovih predmeta.Zatim, koja je razlika između tretmana mete za galvanizaciju i mete za raspršivanje?Dopustite stručnjacima iz Odjela za tehnologiju RSM-a da vam to objasne.
Meta za galvanizaciju
Načelo galvanizacije je u skladu s načelom elektrolitskog rafiniranja bakra.Kod galvanizacije, elektrolit koji sadrži metalne ione sloja za galvanizaciju općenito se koristi za pripremu otopine za galvanizaciju;Uranjanje metalnog proizvoda koji će se nanositi u otopinu za nanošenje i njegovo spajanje s negativnom elektrodom istosmjernog napajanja kao katodom;Obloženi metal se koristi kao anoda i spaja na pozitivnu elektrodu istosmjernog napajanja.Kada se primijeni istosmjerna struja niskog napona, anodni metal se otapa u otopini i postaje kation te prelazi na katodu.Ovi ioni dobivaju elektrone na katodi i reduciraju se u metal, koji se prekriva na metalnim proizvodima koji će biti presvučeni.
Cilj za raspršivanje
Načelo je uglavnom korištenje tinjajućeg pražnjenja za bombardiranje iona argona na površini mete, a atomi mete se izbacuju i talože na površini supstrata kako bi formirali tanki film.Svojstva i ujednačenost raspršenih filmova bolji su od onih filmova nanesenih parom, ali je brzina taloženja mnogo sporija od one kod filmova nanesenih parom.Nova oprema za prskanje gotovo koristi jake magnete za spiralne elektrone kako bi se ubrzala ionizacija argona oko mete, što povećava vjerojatnost sudara između mete i iona argona i poboljšava brzinu raspršivanja.Većina filmova za metalnu prevlaku je DC raspršivanje, dok su nevodljivi keramički magnetski materijali RF AC raspršivanje.Osnovni princip je korištenje tinjajućeg izboja u vakuumu za bombardiranje površine mete ionima argona.Kationi u plazmi će se ubrzati i pojuriti na površinu negativne elektrode kao raspršeni materijal.Ovo bombardiranje će učiniti da ciljni materijal izleti i taloži se na podlogu kako bi se stvorio tanki film.
Kriteriji odabira ciljnih materijala
(1) meta treba imati dobru mehaničku čvrstoću i kemijsku stabilnost nakon stvaranja filma;
(2) Materijal filma za film reaktivnog raspršivanja mora biti lak za stvaranje složenog filma s reakcijskim plinom;
(3) Cilj i podloga moraju biti čvrsto spojeni, inače će se usvojiti filmski materijal s dobrom snagom vezivanja za podlogu, a donji film će se prvo raspršiti, a zatim će se pripremiti potrebni sloj filma;
(4) Pod pretpostavkom ispunjavanja zahtjeva za performanse filma, što je manja razlika između koeficijenta toplinskog širenja mete i podloge, to bolje, kako bi se smanjio utjecaj toplinskog naprezanja raspršenog filma;
(5) Prema zahtjevima za primjenu i performanse filma, meta koja se koristi mora ispunjavati tehničke zahtjeve čistoće, sadržaja nečistoća, ujednačenosti komponenti, točnosti obrade itd.
Vrijeme objave: 12. kolovoza 2022