Kao što svi znamo, vakuumsko isparavanje i ionsko raspršivanje obično se koriste u vakuumskom premazu.Koja je razlika između premaza isparavanjem i premaza raspršivanjem?Zatim će tehnički stručnjaci iz RSM-a podijeliti s nama.
Prevlaka vakuumskim isparavanjem zagrijava materijal koji treba ispariti na određenu temperaturu uz pomoć otpornog zagrijavanja ili bombardiranja elektronskim snopom i laserom u okolini sa stupnjem vakuuma ne manjim od 10-2Pa, tako da energija toplinske vibracije molekula ili atoma u materijalu premašuje energiju vezivanja površine, tako da veliki broj molekula ili atoma ispari ili sublimira, i izravno se taloži na podlogu i oblikuje film.Premaz ionskim raspršivanjem koristi brzo kretanje pozitivnih iona generiranih plinskim pražnjenjem pod djelovanjem električnog polja za bombardiranje mete kao katode, tako da atomi ili molekule u meti pobjegnu i precipitiraju na površinu presvučenog izratka i formiraju potreban film.
Najčešće korištena metoda nanošenja premaza vakuumskim isparavanjem je otporno zagrijavanje, koje ima prednosti jednostavne strukture, niske cijene i praktičnog rada;Nedostatak je što nije prikladan za vatrostalne metale i dielektrične materijale otporne na visoke temperature.Grijanje elektronskim snopom i lasersko grijanje mogu prevladati nedostatke otpornog grijanja.Kod zagrijavanja elektronskim snopom, fokusirani elektronski snop se koristi za izravno zagrijavanje bombardiranog materijala, a kinetička energija elektronskog snopa postaje toplinska energija, što čini materijal isparavanjem.Lasersko grijanje koristi laser velike snage kao izvor grijanja, ali zbog visoke cijene lasera velike snage, trenutno se može koristiti samo u nekoliko istraživačkih laboratorija.
Tehnologija raspršivanja razlikuje se od tehnologije vakuumskog isparavanja."Prskanje" se odnosi na fenomen da nabijene čestice bombardiraju čvrstu površinu (cilj) i tjeraju čvrste atome ili molekule da izbiju s površine.Većina emitiranih čestica je u atomskom stanju, koje se često naziva raspršeni atomi.Raspršene čestice koje se koriste za bombardiranje mete mogu biti elektroni, ioni ili neutralne čestice.Budući da je ione lako ubrzati pod električnim poljem kako bi dobili potrebnu kinetičku energiju, većina njih koristi ione kao bombardirane čestice.Proces raspršivanja temelji se na tinjajućem izbijanju, odnosno raspršujući ioni dolaze iz plinskog izboja.Različite tehnologije raspršivanja prihvaćaju različite načine tinjajućeg pražnjenja.DC raspršivanje dioda koristi DC tinjajuće pražnjenje;Triodno raspršivanje je tinjajuće pražnjenje podržano vrućom katodom;RF raspršivanje koristi RF tinjajuće pražnjenje;Magnetronsko raspršivanje je tinjajuće pražnjenje kontrolirano prstenastim magnetskim poljem.
U usporedbi s premazom vakuumskim isparavanjem, premaz raspršivanjem ima mnoge prednosti.Na primjer, bilo koja tvar se može raspršiti, posebno elementi i spojevi s visokim talištem i niskim tlakom pare;Prianjanje između prskanog filma i podloge je dobro;Visoka gustoća filma;Debljina filma se može kontrolirati i ponovljivost je dobra.Nedostatak je što je oprema složena i zahtijeva visokonaponske uređaje.
Osim toga, kombinacija metode isparavanja i metode raspršivanja je ionska plastifikacija.Prednosti ove metode su da dobiveni film ima jaku adheziju na podlogu, visoku brzinu taloženja i veliku gustoću filma.
Vrijeme objave: 20. srpnja 2022