Kao što svi znamo, metode koje se obično koriste u vakuumskom premazu su vakuumska transpiracija i ionsko raspršivanje.Koja je razlika između transpiracijskog premaza i premaza raspršivanjem Mnoginarod imaju takva pitanja.Podijelimo s vama razliku između transpiracijskog premaza i premaza raspršivanjem
Vakuumski transpiracijski film zagrijava podatke koji se transpiriraju na fiksnu temperaturu pomoću otpornog zagrijavanja ili elektronskog snopa i laserskog ljuštenja u okruženju sa stupnjem vakuuma ne manjim od 10-2Pa, tako da energija toplinske vibracije molekula ili Atomi u podacima premašuju energiju vezanja površine, tako da mnoge molekule ili atomi transpiriraju ili se povećavaju i izravno ih talože na podlogu kako bi formirali film.Premaz ionskim raspršivanjem koristi visoko otporno kretanje pozitivnih iona generiranih plinskim pražnjenjem pod učinkom električnog polja za bombardiranje mete kao katode, tako da atomi ili molekule u meti pobjegnu i talože se na površini presvučenog izratka i formiraju potreban film.
Najčešće korištena metoda vakuumskog transpiracijskog premazivanja je metoda otpornog zagrijavanja.Njegove prednosti su jednostavna struktura izvora grijanja, niska cijena i jednostavan rad.Njegovi nedostaci su što nije prikladan za vatrostalne metale i medije otporne na visoke temperature.Grijanje elektronskim snopom i lasersko grijanje mogu prevladati nedostatke otpornog grijanja.Kod zagrijavanja elektronskim snopom, fokusirani elektronski snop koristi se za izravno zagrijavanje zaštićenih podataka, a kinetička energija elektronskog snopa postaje toplinska energija kako bi se omogućila transpiracija podataka.Lasersko grijanje koristi laser velike snage kao izvor grijanja, ali zbog visoke cijene lasera velike snage, može se koristiti samo u malom broju istraživačkih laboratorija.
Vještina prskanja razlikuje se od vještine vakuumske transpiracije.Raspršivanje se odnosi na fenomen da nabijene čestice bombardiraju natrag na površinu (cilj) tijela, tako da se kruti atomi ili molekule emitiraju s površine.Većina emitiranih čestica su atomske, koje se često nazivaju raspršeni atomi.Raspršene čestice koje se koriste za granatiranje meta mogu biti elektroni, ioni ili neutralne čestice.Budući da ioni lako dobivaju potrebnu kinetičku energiju pod električnim poljem, ioni se uglavnom biraju kao ljušteće čestice.
Proces prskanja temelji se na tinjajućem pražnjenju, odnosno raspršujući ioni dolaze iz plinskog pražnjenja.Različite vještine raspršivanja imaju različite metode sjajnog pražnjenja.DC raspršivanje dioda koristi DC tinjajuće pražnjenje;Triodno raspršivanje je tinjajuće pražnjenje podržano vrućom katodom;RF raspršivanje koristi RF tinjajuće pražnjenje;Magnetronsko raspršivanje je tinjajuće pražnjenje kontrolirano prstenastim magnetskim poljem.
U usporedbi s vakuumskim transpiracijskim premazom, premaz raspršivanjem ima mnoge prednosti.Ako se bilo koja tvar može raspršiti, posebno elementi i spojevi s visokim talištem i niskim tlakom pare;Prianjanje između prskanog filma i podloge je dobro;Visoka gustoća filma;Debljina filma se može kontrolirati i ponovljivost je dobra.Nedostatak je što je oprema složena i zahtijeva visokonaponske uređaje.
Dodatno, kombinacija metode transpiracije i metode raspršivanja je ionska plastifikacija.Prednosti ove metode su jaka adhezija između filma i podloge, visoka brzina taloženja i velika gustoća filma.
Vrijeme objave: 9. svibnja 2022