Vakuumsko premazivanje odnosi se na zagrijavanje i isparavanje izvora isparavanja u vakuumu ili raspršivanje s ubrzanim ionskim bombardiranjem i taloženje na površinu supstrata kako bi se formirao jednoslojni ili višeslojni film.Koji je princip vakuumskog premazivanja?Dalje će nas upoznati urednik RSM-a.
1. Vakuumski premaz isparavanjem
Premazivanje isparavanjem zahtijeva da udaljenost između molekula pare ili atoma od izvora isparavanja i supstrata koji se premaže bude manja od prosječnog slobodnog puta molekula zaostalog plina u prostoriji za nanošenje, kako bi se osiguralo da molekule pare isparavanje može doći do površine podloge bez sudara.Osigurajte da je film čist i čvrst, te da isparavanje neće oksidirati.
2. Premaz vakuumskim raspršivanjem
U vakuumu, kada se ubrzani ioni sudaraju s krutinom, s jedne strane dolazi do oštećenja kristala, s druge strane, sudaraju se s atomima koji tvore kristal i na kraju s atomima ili molekulama na površini krutine. prskati prema van.Raspršeni materijal nanosi se na podlogu kako bi se formirao tanki film, što se naziva vakuumsko raspršivanje.Postoje mnoge metode raspršivanja, među kojima je najranije raspršivanje diodama.Prema različitim katodnim ciljevima, može se podijeliti na istosmjernu (DC) i visokofrekventnu (RF).Broj raspršenih atoma udarom iona na ciljnu površinu naziva se brzinom raspršivanja.Uz visoku stopu raspršivanja, brzina stvaranja filma je velika.Brzina raspršivanja povezana je s energijom i vrstom iona te vrstom ciljanog materijala.Općenito govoreći, brzina raspršivanja raste s povećanjem energije ljudskih iona, a brzina raspršivanja plemenitih metala je veća.
Vrijeme objave: 14. srpnja 2022