Silicijska meta za raspršivanje

Neki su kupci pitali o silikonskim metama za raspršivanje.Sada će kolege iz odjela RSM Technology za vas analizirati silicijske mete za raspršivanje.

Silicijska meta za raspršivanje izrađena je raspršivanjem metala iz silicijevog ingota.Meta se može proizvesti različitim postupcima i metodama, uključujući galvanizaciju, raspršivanje i taloženje iz pare.Preferirana ostvarenja nadalje osiguravaju dodatne procese čišćenja i jetkanja za postizanje željenih površinskih uvjeta.Proizvedena meta ima visoku refleksiju, s hrapavošću manjom od 500 angstroma i relativno velikom brzinom gorenja.Film pripremljen silicijskom metom ima nizak broj čestica.

Silikonska meta za raspršivanje koristi se za nanošenje tankih filmova na materijale na bazi silicija.Obično se koriste u aplikacijama za zaslone, poluvodiče, optičke uređaje, optičku komunikaciju i premaze za staklo.Također su prikladni za jetkanje visokotehnoloških komponenti.Silicijske mete za prskanje N-tipa mogu se koristiti u različite svrhe.Primjenjiv je na mnoga područja, uključujući elektroniku, solarne ćelije, poluvodiče i zaslone.

Silicijska meta za raspršivanje je dodatak za raspršivanje koji se koristi za taloženje materijala na površinu.Obično se sastoji od atoma silicija.Proces prskanja zahtijeva preciznu količinu materijala, što može biti veliki izazov.Korištenje idealne opreme za prskanje jedini je način za izradu komponenti na bazi silicija.Vrijedno je napomenuti da se silicijska meta za raspršivanje ne koristi u procesu raspršivanja.