Što je polisilikonska meta

Polisilicij je važan ciljni materijal za prskanje.Korištenje metode magnetronskog raspršivanja za pripremu SiO2 i drugih tankih filmova može učiniti da materijal matrice ima bolju optičku, dielektričnu i otpornost na koroziju, što se naširoko koristi u industriji osjetljivoj na dodir, optičkoj i drugim industrijama.

Procesom lijevanja dugih kristala ostvaruje se usmjereno skrućivanje tekućeg silicija od dna prema vrhu postupno točnim kontroliranjem temperature grijača u vrućem polju peći za ingote i disipacije topline toplinsko izolacijskog materijala, i brzina skrućivanja dugih kristala je 0,8 ~ 1,2 cm/h.U isto vrijeme, u procesu usmjerenog skrućivanja, može se ostvariti učinak segregacije metalnih elemenata u silicijskim materijalima, većina metalnih elemenata može se pročistiti i može se formirati jednolika polikristalna struktura zrna silicija.

Lijevani polisilicij također treba biti namjerno dopiran u procesu proizvodnje, kako bi se promijenila koncentracija akceptorskih nečistoća u talini silicija.Glavni dopant p-tipa lijevanog polisilicija u industriji je silicij-bor glavna legura, u kojoj je sadržaj bora oko 0,025%.Količina dopinga određena je ciljnom otpornošću silicijske pločice.Optimalni otpor je 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, a odgovarajuća koncentracija bora je oko 2 × 1014 cm-3。 Međutim, koeficijent segregacije bora u siliciju je 0,8, što će pokazati određeni učinak segregacije u procesu usmjerenog skrućivanja, tj. Naime, element bora raspoređen je u gradijentu u okomitom smjeru ingota, a otpornost se postupno smanjuje od dna prema vrhu ingota.